Cíl rozprašování molybdenu
2.Catalog: Produkt molybdenu
3. Materiál: čistý molybden
4. Zabezpečení: MO větší nebo rovna 99,95%
5. Hustota: 10,22 g\/cm3
6. Shape: kulatá, čtvercová, trubice, talíř, tyč, obdélník
7. Typ: Planar Cíle, rotující cíl, kulatý cíl, cíl desky, plochý cíl, přizpůsobený cíl s nepravidelným tvarem.
8. Technika manufakturingu: proces metalurgie prášku, slinovaný, kování, válcování, obrábění.
9.Applikace: Povlak na rozprašování vakuového rozprašování, displeje plochých panelů, elektrody a kabelové materiály, polovodičové bariérové vrstvy.
10. Místo původu: Luoyang, Čína
Zavedení
Cíl molybden rozprašování je kovový cílový materiál složený hlavně z vysoce čistého molybdenu (MO) a používá se ve vakuových povlakových technologiích, jako je magnetron rozprašování. „Rozprašuje“ atomy povrchu pod bombardováním vysokoenergetických částic a vloží na substrát, aby vytvořily tenký film.
Výhody
1. Vynikající vysoká čistota a hustota
Cíle rozprašování molybdenu jsou vyrobeny z materiálů s vysokou čistotou molybdenu (MO větší nebo rovna 99,95%). Suroviny jsou přísně prověřovány a kontrolovány nečistoty, aby se zajistilo, že proces uvolňování atomů molybdenu během vakuového rozprašování nese atomy nečistot, čímž účinně zajišťuje čistotu a funkční výkon uloženého filmu. Kromě toho může cílová hustota dosáhnout 10,22 g\/cm³, což je blízko teoretické hustotě molybdenu. Vysoká hustota nejen pomáhá zlepšit účinnost rozprašování a rychlost tvorby filmu, ale také prodlužuje životnost cíle a snižuje výskyt kvalitních problémů, jako je struska a trhliny.
2. Pokročilý výrobní proces
Cíle molybdenu používají technologii formování prášku ve výrobním procesu v kombinaci s více kroky, jako je kování horkých, válcování a přesné obrábění, aby se zajistila jednotnost a stabilitu organizační struktury. Tyto metody procesu mohou účinně řídit velikost zrna a mechanické vlastnosti materiálu, čímž se během dlouhodobého používání zlepšují strukturální integritu a odolnost proti tepelnému šoku cíle.
3. Široká přizpůsobitelnost aplikace
Za prvé, v technologii vakuového rozprašování povlaků se pro depozici kovových filmů často používají cíle molybdenu. Mohou se přizpůsobit různým systémům magnetronu a požadavkům na procesy, aby splňovaly funkční požadavky různých povlaků. Za druhé, v technologii zobrazení plochého panelu se materiály molybdenu široce používají při přípravě zadních elektrodových vrstev, jako jsou OLED a TFT-LCD, se stabilním výkonem a elektrickým výkonem. Cíle molybdenu jsou také vhodné pro elektrodovou vrstvu CIGS tenkovrstvých solárních článků, zejména ve struktuře jejich zadní elektrody. Vysoká vodivost vrstvy molybdenu pomáhá zlepšit účinnost přeměny energie.
Specifikace produktu
|
MolybdenSPutteringTcílová skupinaSpecifikace |
|||||
|
ProduktTyp |
Tloušťka/Průměr(MM) |
Šířka(MM) |
Délka(MM) |
ROughness (mm) |
Aplikace |
|
Plavinný cíl molybdenu |
1.5-40 |
1.0-2500.00 |
1.0-4000.00 |
Ra 0. 2-6. 4 |
Vhodné pro G 3- G10.5 Generování potahovacího zařízení TFT |
|
Otočný cíl molybdenu |
120-170 |
/ |
3500 |
Ra 0. 2-6. 4 |
|
|
TestResultsZMolybdenTargetUSed inSPutteringDepozice |
||||
|
Produkt |
Cílová hustota výkonu (W\/CM2) |
Teplota substrátu (stupeň) |
Míra formace filmu (A · M\/min) |
Specifický odpor@2000a (μΩCM) |
|
MO cíl |
5.0 |
100.0 |
342.8 |
11.7 |
Populární Tagy: Cíl rozprašování molybdenu, Čínská molybdenu Target Target Target, dodavatelé, továrna
Dvojice
Čistý molybdenum kelímekDalší
MOLYBDENUM PODLAYMohlo by se Vám také líbit
Odeslat dotaz










